355nm UV Qスイッチレーザー パルスレーザー 製品説明
繰り返しレート：外部信号入力0〜5V / 1〜10KHz。
電源のボタンまたはTTL変調信号でパルス繰り返し周波数を調整できます。
電源のボタンまたはTTL変調信号でパルス繰り返し周波数を調整できます。
2019年8月5日月曜日
2019年1月29日火曜日
小型473nmレーザの原理と実験設計
小型473nmレーザの原理と実験設計
473 nmの固体レーザーは450 nmの半導体レーザーとは異なります。
473nmレーザーは、YAG結晶、LBO結晶、および安定した473nmの青色光出力を備えた高効率の共振器内周波数逓倍青色レーザーです。
473nmレーザーは、YAG結晶、LBO結晶、および安定した473nmの青色光出力を備えた高効率の共振器内周波数逓倍青色レーザーです。
473nm実験装置：
励起光源として808nmのLDを使用し、レーザー結晶イットリウムアルミニウムガーネット（Nd 3+：YAG）に焦点を合わせるための集束レンズを提供した。
平坦な凹面鏡（出力鏡）によるレーザーキャビティの形成
これにより、946nmのパルス波出力が得られた。
ＬＢＯ結晶は、473nmの青色光を得るためにキャビティ内で周波数を２倍にするために使用された。
概略図を以下に示します。
LDはNlightの1.5W 808nm半導体レーザーを使用し、光路は直径Φ5mm、焦点距離F = 3.5mmの短焦点集束レンズを使用する必要があります。 より高い出力およびより良いビーム品質を得るためには、コリメーションのためのレンズ光学表面フィルムシステムは以下の通りであることが必要である：平凹面鏡、凹面：473nｍＡＲ、残留反射＜０．５％。
平面凸面鏡、平面：473nｍＡＲ、残留反射＜０．５％。
凸：473nmＡＲ残留反射＜０．５％。
携帯性および小型化の目的を達成するために、PC板制御サイズ：42mm×14mm×14mm、
DC入力電圧：2.5〜3.6VAC、CR2リチウム電池。
励起光源として808nmのLDを使用し、レーザー結晶イットリウムアルミニウムガーネット（Nd 3+：YAG）に焦点を合わせるための集束レンズを提供した。
平坦な凹面鏡（出力鏡）によるレーザーキャビティの形成
これにより、946nmのパルス波出力が得られた。
ＬＢＯ結晶は、473nmの青色光を得るためにキャビティ内で周波数を２倍にするために使用された。
概略図を以下に示します。
LDはNlightの1.5W 808nm半導体レーザーを使用し、光路は直径Φ5mm、焦点距離F = 3.5mmの短焦点集束レンズを使用する必要があります。 より高い出力およびより良いビーム品質を得るためには、コリメーションのためのレンズ光学表面フィルムシステムは以下の通りであることが必要である：平凹面鏡、凹面：473nｍＡＲ、残留反射＜０．５％。
平面凸面鏡、平面：473nｍＡＲ、残留反射＜０．５％。
凸：473nmＡＲ残留反射＜０．５％。
携帯性および小型化の目的を達成するために、PC板制御サイズ：42mm×14mm×14mm、
DC入力電圧：2.5〜3.6VAC、CR2リチウム電池。
実験による473nmの結論：
デバッグを通して、安定した473nmの青色光を出力することができ、発散角は≦1.5mradであり、変換効率は3.2％である高効率のキャビティ内周波数倍増青色レーザを得た。
デバッグを通して、安定した473nmの青色光を出力することができ、発散角は≦1.5mradであり、変換効率は3.2％である高効率のキャビティ内周波数倍増青色レーザを得た。
結論
本稿では、結晶の周波数逓倍の理論について簡単に説明します。 紫外線周波数倍増に適した非線形光学結晶の特性をまとめた。 ＹＡＧ結晶およびＬＢＯ結晶が選択されている。
高効率の共振器内周波数倍増青色レーザをデバッグする ３．２％の変換効率で安定な473nmの青色光出力が得られた。
したがって、半導体レーザの小型化および小型化という目的が達成される。
本稿では、結晶の周波数逓倍の理論について簡単に説明します。 紫外線周波数倍増に適した非線形光学結晶の特性をまとめた。 ＹＡＧ結晶およびＬＢＯ結晶が選択されている。
高効率の共振器内周波数倍増青色レーザをデバッグする ３．２％の変換効率で安定な473nmの青色光出力が得られた。
したがって、半導体レーザの小型化および小型化という目的が達成される。
2019年1月15日火曜日
532nmレーザー ＆ 520nmレーザー
532 nmと520 nmの波長はどちらも緑色のレーザー光源です。520nmのレーザーは少し草が茂った緑色です。
しかし、2つのレーザーの照射原理は完全に異なります。
532nmはdpssで、内部はレーザークリスタルで照らされています。
しかし、2つのレーザーの照射原理は完全に異なります。
532nmはdpssで、内部はレーザークリスタルで照らされています。
520nmは半導体レーザー、中はレーザーダイオードです。
詳細な製品パラメータについては、当社のWebサイトをご覧ください。 www.civillasers.com
2018年11月19日月曜日
589nm黄色DPSSレーザーFC / PCファイバー - CivilLaser
2018年7月12日木曜日
1047nm DPSS レーザー 0〜150mW 出力調整可能
このビデオはCivilLaser製で、1047nmの赤外線DPSSレーザーで、出力パワーは0〜150mWの範囲で調整できます。 それはCW / TTL /アナログ3変調モードを持っています。 今すぐチェックしましょう。
2018年5月22日火曜日
445nm 6w 青色レーザ CW & 変調モード TTL Analog 3 in 1デモ
これは、調整可能な電源を備えた445nm 6W 高出力固体レーザ。 このレーザーはCivilLaserからのものです。 電流を調整することによりレーザー出力を調整することができます。 カスタマイズされたラボレーザーシステムで、レーザーの波長、出力パワーはカスタマイズ可能です。 レーザーにはCW、TTL、アナログの3つのモードがあります。 CW TTLアナログ・モードを示します。それをチェックしよう：
2018年1月18日木曜日
阪大，青色レーザーによるSLM方式積層装置を開発 ─純銅の高精細造形に成功
大阪大学接合科学研究所・教授の塚本雅裕氏らの研究グループは，青色半導体レーザーの高輝度化によって，純銅を積層造形できる3Dプリンターを開発した。
この開発は，新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO）のプロジェクト「高輝度・高効率次世代レーザー技術開発／次世代レーザー及び加工の共通基盤技術開発／レーザー加工プラットフォームの構築／高輝度青色半導体レーザー及び加工技術の開発」の一環として取り組んでいるもので，今回の成果は島津製作所との共同で，日亜化学工業と村谷機械製作所の協力も受けて実現した。
今回開発したのは，出力100W・波長450nmの青色半導体レーザーを搭載したSLM（Selective Laser Melting）方式の3Dプリンターで，コア径が100μmの光ファイバーを用い，青色半導体レーザーデバイスからの出力光を空間・偏光結合することによって高輝度化を達成した。これにより，直径100μmのスポットに集光できることから，純銅粉末を溶融するのに必要な100 Wの出力でレーザー光のパワー密度を1.3×106 W/cm2を実現した。
この装置を用いて実際に純銅の積層造形を行ない，直径9 mm・高さ9 mmの造形サンプルを作製した。塚本氏によると，この3Dプリンター造形による一層当たりの厚さは約100μmという。純銅材料以外に適用可能な材料としては，金粉末でも可能としている。
塚本氏ら研究グループでは，造形ヘッドから粉末供給しながらレーザー照射によって造形するという研究開発にも取り組んでいるが，この方式の一つであるLMD（Laser Metal Deposition）方式に比べて，SLM方式では，複雑な形状造形の精度面で優れるとする。これにより，純銅ヒートシンクなどといった複雑な構造の流路を持つ造形応用も期待できると見ている。
また，今回装置の低コスト化をにらみ，ガルバノミラーを使用せず，集光ヘッドを直接稼働させる機構とした。塚本氏によると，造形スピードに関しては現在評価中としている。
今後の開発について，塚本氏は「今年度中にも青色半導体レーザーの出力を200 Wにする」とコメントし，その実現を波長多重結合によって可能としている。
近年，青色半導体レーザーによる加工応用が注目されており，産業化への期待が高まっている。課題はコストとレーザーの高出力化だが，市場は航空・宇宙・自動車など高付加価値分野から立ち上がるものと考えられる。実用展開に向けた今後の開発動向には目が離せない。
この開発は，新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO）のプロジェクト「高輝度・高効率次世代レーザー技術開発／次世代レーザー及び加工の共通基盤技術開発／レーザー加工プラットフォームの構築／高輝度青色半導体レーザー及び加工技術の開発」の一環として取り組んでいるもので，今回の成果は島津製作所との共同で，日亜化学工業と村谷機械製作所の協力も受けて実現した。
今回開発したのは，出力100W・波長450nmの青色半導体レーザーを搭載したSLM（Selective Laser Melting）方式の3Dプリンターで，コア径が100μmの光ファイバーを用い，青色半導体レーザーデバイスからの出力光を空間・偏光結合することによって高輝度化を達成した。これにより，直径100μmのスポットに集光できることから，純銅粉末を溶融するのに必要な100 Wの出力でレーザー光のパワー密度を1.3×106 W/cm2を実現した。
この装置を用いて実際に純銅の積層造形を行ない，直径9 mm・高さ9 mmの造形サンプルを作製した。塚本氏によると，この3Dプリンター造形による一層当たりの厚さは約100μmという。純銅材料以外に適用可能な材料としては，金粉末でも可能としている。
塚本氏ら研究グループでは，造形ヘッドから粉末供給しながらレーザー照射によって造形するという研究開発にも取り組んでいるが，この方式の一つであるLMD（Laser Metal Deposition）方式に比べて，SLM方式では，複雑な形状造形の精度面で優れるとする。これにより，純銅ヒートシンクなどといった複雑な構造の流路を持つ造形応用も期待できると見ている。
また，今回装置の低コスト化をにらみ，ガルバノミラーを使用せず，集光ヘッドを直接稼働させる機構とした。塚本氏によると，造形スピードに関しては現在評価中としている。
今後の開発について，塚本氏は「今年度中にも青色半導体レーザーの出力を200 Wにする」とコメントし，その実現を波長多重結合によって可能としている。
近年，青色半導体レーザーによる加工応用が注目されており，産業化への期待が高まっている。課題はコストとレーザーの高出力化だが，市場は航空・宇宙・自動車など高付加価値分野から立ち上がるものと考えられる。実用展開に向けた今後の開発動向には目が離せない。
2018年1月12日金曜日
589nm 3000mW~4800mW TEM00 高出力 DPSSレーザー —— CivilLaser
589nm DPSSレーザー 出力 3000mW~4800mW TEM00 高出力の安定性
[規格]
波長: 589±2(nm)
出力: 3000mW, 4800mW(can be customized)
横モード:Near TEM00
動作モード:CW
電力の安定性(4時間以上のrms): <3%
予熱時間: <10 minutes
ビーム品質(M2): 3.0~6.0
ビーム発散全角: <2. 0mrad
レーザー直径: <4mm
出光穴高さ: 93.5mm
偏振: >100:1
最適運転温度: 10℃~35℃
変調: TTL on/off, 1Hz-1KHz, 1KHz-10KHz, 10KHz-30KHz; and Analog modulation option
電源: (90-264VAC) PSU-W-LED or PSU-W-FDA
使用寿命: 10,000 hrs
保証期間: 1year
納期|Lead Time: 3~10 workingdays! Custom product available
[規格]
波長: 589±2(nm)
出力: 3000mW, 4800mW(can be customized)
横モード:Near TEM00
動作モード:CW
電力の安定性(4時間以上のrms): <3%
予熱時間: <10 minutes
ビーム品質(M2): 3.0~6.0
ビーム発散全角: <2. 0mrad
レーザー直径: <4mm
出光穴高さ: 93.5mm
偏振: >100:1
最適運転温度: 10℃~35℃
変調: TTL on/off, 1Hz-1KHz, 1KHz-10KHz, 10KHz-30KHz; and Analog modulation option
電源: (90-264VAC) PSU-W-LED or PSU-W-FDA
使用寿命: 10,000 hrs
保証期間: 1year
納期|Lead Time: 3~10 workingdays! Custom product available
2018年1月11日木曜日
レーザー励起方法
レーザーを発振させるためには、レーザー媒質中の原子(または分子)が反転分布の状態である必要がある。
反転分布を起こすためには励起源からのエネルギー供給が必要であり、その手段には以下の種類がある。
放電励起--気体レーザーの多くは、放電によって励起する。グロー放電・アーク放電が利用される。
光励起--固体レーザーや液体レーザーの多くは、光によって励起する。大光量のランプや、レーザー光を用いて励起する。
電子ビーム励起 -- 電子を500kV以上の高速パルスの電圧で、光速近くまで加速した相対論的電子ビーム(REB)で励起する。
化学励起 -- 化学反応で得られるエネルギーによって、励起する。外部からのエネルギー供給は必要としないユニークな励起源である。
電流励起 -- 電流を注入することによって、レーザー媒質を励起する。主に半導体レーザーで利用される。
熱励起 -- 熱エネルギーを用いて、レーザー媒質を励起する。
反転分布を起こすためには励起源からのエネルギー供給が必要であり、その手段には以下の種類がある。
放電励起--気体レーザーの多くは、放電によって励起する。グロー放電・アーク放電が利用される。
光励起--固体レーザーや液体レーザーの多くは、光によって励起する。大光量のランプや、レーザー光を用いて励起する。
電子ビーム励起 -- 電子を500kV以上の高速パルスの電圧で、光速近くまで加速した相対論的電子ビーム(REB)で励起する。
化学励起 -- 化学反応で得られるエネルギーによって、励起する。外部からのエネルギー供給は必要としないユニークな励起源である。
電流励起 -- 電流を注入することによって、レーザー媒質を励起する。主に半導体レーザーで利用される。
熱励起 -- 熱エネルギーを用いて、レーザー媒質を励起する。
2018年1月9日火曜日
固体レーザー そして 半導体レーザ
固体レーザー
固体は液体や気体に比べて密度が高い、つまり単位体積中により多くの原子が詰まっていることになる。
このため固体レーザーは単位体積あたりのレーザー出力は大きい。したがって、固体レーザーは小型であっても大出力を得ることができる。
YAGレーザーが固体レーザーの代表である。YAGレーザーは出力が大きいため、レーザー加工・レーザー溶接の分野で利用されている。
この分野では、その他にCO2レーザー(気体レーザー)が利用されている。
固体レーザーを連続して使用すると、レーザー媒質に熱がこもる。
この熱でレーザー媒質が膨張し、レンズとしての作用を持ちレーザー光路に悪影響を与える場合がある。これをレンズ効果という。
ガラスは熱伝導が悪い。このため、ガラスをレーザー媒質として使用した場合、レンズ効果の影響を特に受けやすくなる。
半導体レーザ
半導体は固体の一種であるが、レーザー技術の分野では固体とは別に分類されている。
Ⅲ-Ⅴ族半導体を利用したものと、Ⅳ-Ⅵ族半導体を用いたものに大別される。
どちらも、小型、高効率であるが、Ⅲ-Ⅴ族半導体の技術が先行している。
光通信、CD、DVD、レーザープリンタ等に利用されている。
半導体のPN接合部に順方向電圧を与え、電子とホール(正孔)を注入することによって、反転分布状態を得る。
www.civillasers.com
固体は液体や気体に比べて密度が高い、つまり単位体積中により多くの原子が詰まっていることになる。
このため固体レーザーは単位体積あたりのレーザー出力は大きい。したがって、固体レーザーは小型であっても大出力を得ることができる。
YAGレーザーが固体レーザーの代表である。YAGレーザーは出力が大きいため、レーザー加工・レーザー溶接の分野で利用されている。
この分野では、その他にCO2レーザー(気体レーザー)が利用されている。
固体レーザーを連続して使用すると、レーザー媒質に熱がこもる。
この熱でレーザー媒質が膨張し、レンズとしての作用を持ちレーザー光路に悪影響を与える場合がある。これをレンズ効果という。
ガラスは熱伝導が悪い。このため、ガラスをレーザー媒質として使用した場合、レンズ効果の影響を特に受けやすくなる。
半導体レーザ
半導体は固体の一種であるが、レーザー技術の分野では固体とは別に分類されている。
Ⅲ-Ⅴ族半導体を利用したものと、Ⅳ-Ⅵ族半導体を用いたものに大別される。
どちらも、小型、高効率であるが、Ⅲ-Ⅴ族半導体の技術が先行している。
光通信、CD、DVD、レーザープリンタ等に利用されている。
半導体のPN接合部に順方向電圧を与え、電子とホール(正孔)を注入することによって、反転分布状態を得る。
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