2019年11月21日木曜日

CivilLasersのレーザー製品認証の概要

CivilLasersのレーザー製品認証の概要

以下は、CivilLaserのレーザー製品の一部のレーザー認証です。
(各製品の証明書は異なります。以下はほんの一部のサンプルです。)
1.レーザーモジュールのCE LVD認定。
2.レーザーモジュールのCE EMC認証。
3.ファイバーレーザーのFDA番号。
4.ファイバーレーザーのFCC認定。
5.ファイバーレーザーのIC認証。
6.ファイバーレーザーのROHS認証。
7.ファイバーレーザーのCE-EMC-認証。
8.ファイバーレーザーのCE-LVD認証。

注意:
1.お客様のニーズに応じて、さまざまな証明書を申請できます。
2.カスタムレーザー製品は、デフォルトでは認定されていません。
お客様が必要な場合にのみ、さまざまな種類の認証を申請します。
3.認証料は、注文の実際の状況に応じて、解決するために顧客と交渉します。

1.レーザーモジュールのCE LVD認定。
LaserModule-CE LVD Certification
01-LaserModule-CE LVD Certification.pdf

2.レーザーモジュールのCE EMC認証。
02-LaserModule-CE EMC Certification
02-LaserModule-CE EMC Certification.pdf

3.ファイバーレーザーのFDA番号。
03 FDA number for fiber laser
03 FDA number for fiber laser.pdf

4.ファイバーレーザーのFCC認定。
04 FCC-Certification for fiber laser
04 FCC-Certification for fiber laser.pdf

5.ファイバーレーザーのIC認証。
05 IC-Certification for fiber laser
05 IC-Certification for fiber laser.pdf

6.ファイバーレーザーのROHS認証。
06 ROHS-Certification for fiber laser
06 ROHS-Certification for fiber laser.pdf

7.ファイバーレーザーのCE-EMC-認証。
07 CE-EMC-Certification for fiber laser
07 CE-EMC-Certification for fiber laser.pdf

8.ファイバーレーザーのCE-LVD認証。
08 CE-LVD-Certification for fiber laser
08 CE-LVD-Certification for fiber laser.pdf

2019年11月20日水曜日

440nm ダイオードレーザー CW TTL アナログ変調

調整可能な電源を備えた440nmの青色半導体レーザーであり、電流を調整することで出力電力を0〜4000mWの範囲で調整できます。 CW、TTL変調、アナログ変調から選択する3つのモードがあります。 電源の安定性は0.04%です。 今すぐ確認しましょう。


2019年11月19日火曜日

9000mW 465nm 最も強力な 青色レーザービーム

465nm 9Wレーザーシステムです。 レーザーヘッドは、冷却ファンとコリメータを追加できます(デフォルトはインストールされていません)。 このレーザーシステムは、電流調整可能な電源を使用します。 レーザー出力はボタンで調整可能な0〜9000mWです。 3つの作業モードCWとTTL /アナログ変調があります。パワー安定性は0.03%で、レーザーの安定性は非常に良好です。


520nm 2W 緑色固体レーザー 出力パワー調整可能

520nmの緑色レーザーシステムです。 0〜2Wのレーザー出力は、電流調整器により調整可能です。 連続作業とTTL /アナログ変調をサポートしています。 一緒に3作業モード。 レーザーの安定性は非常に良好です。


 

2019年11月14日木曜日

機器、モジュール、およびコンポーネントの違いは何ですか?

機器、モジュール、およびコンポーネントの違いは何ですか?

違いは通常、価格、機能セット、およびサイズです。

機器には通常、ノブとボタンの調整を備えたフロントパネルと、レーザーダイオードの動作を追跡する何らかの形式のディスプレイがあります。これらはすべて、USB、RS-232、RS-485、またはGPIBを介したコンピューター制御で自動化できます。機器は通常、DC電源ではなくACから給電されます。

私たちの定義では、モジュールにはディスプレイや電源は含まれず、最小限の調整が必要です。ステータスを監視するために、外部の電圧計が電圧を測定し、モジュールのデータシートが電圧を実際のレーザーダイオード電流またはフォトダイオード電流に変換する伝達関数を提供します。

可動部品のないコンポーネントはさらに削除されます。外付けの抵抗またはコンデンサで動作パラメータを設定します。安全機能は、3つのフォームすべてに共通です。通常、モジュールはベンチトップに設置するか、ケーブルを使用してシステムに統合できます。コンポーネントは、プレートスルーまたは表面実装(SMT)ピンを使用して、プリント回路基板(PCB)に直接取り付けます。 2列のピンはDIPパッケージング(デュアルインライン)と呼ばれ、1列のピンはSIPパッケージング(シングルインライン)と呼ばれます。

さまざまな既製のコントローラが、機器とOEMパッケージの両方で利用できます。一部のベンダーは、たとえば、ミニ機器としてコンポーネントのUSB制御を提供するなど、境界を曖昧にしています。コンポーネントとモジュールのパッケージには、回路要素の適切なヒートシンク(またはデバイスをヒートシンクする方法に関するガイダンス)が含まれ、通常は適切なケーブル接続が含まれますレーザーダイオードと電源。機器には電源コードが含まれており、ケース内でユーザーがアクセスする必要はありません。

2019年11月13日水曜日

266nm UVレーザー -- CivilLasers.com

レーザーダイオード(LD)エンドポンプNd:YAG音響光学Qスイッチ高ピーク出力266 nm UVレーザーが報告されています。 レーザーは、LBOとBBOをそれぞれ2倍周波数と4倍周波数の結晶として持つコンパクトなフラットキャビティ構造を使用します。 実験は、高偏光比LDアレイ(40:1)、低偏光比LDアレイ(5:1)、および低偏光LDアレイキャビティを使用して実行されました。 注入電力が25 W、変調周波数が10 kHzの場合、上記の構造では、それぞれ0.85、0.61、0.72 Wの266 nmのUV出力が得られます。 中でも、高偏光比のLDアレイの出力は最も高く、単一パルスエネルギーは85μJ、パルス幅は5 ns、ピーク出力は最大17 kW、ポンプ光の紫外光への光から光への変換率は3.4%です。

紫外線レーザーは、その高い単一光子エネルギーと小さな回折効果により、蛍光検出、微細加工、リソグラフィーで広く使用されています。現在、産業および科学研究の分野では、紫外線レーザーを得る方法は主に気体紫外線レーザーと固体に分けられます。 レーザーには2つのタイプがあります。 ガス紫外線レーザーには、エキシマレーザー、水素イオンレーザー、窒素分子レーザーが含まれますが、ガスレーザーは、サイズが大きく、寿命が短く、長期メンテナンスのため、レーザーダイオード(LD)で励起される固体紫外線レーザーに置き換えられています。 全固体UVレーザーを取得する最も簡単な方法は、エルビウムをドープした固体レーザーの近赤外波でキャビティ内またはキャビティ外の周波数変換を実行して、3次または4次高調波を生成することです。 高出力エンドポンプUVレーザーは、レーザー結晶としてNd:YVO4を使用します。これは、繰り返し周波数は高くなりますが、ピーク出力は低くなります。 より高いピーク出力を得るために、本論文では、LDエンドポンプNd:YAG音響光学Qスイッチ高ピーク出力UV 266 nmレーザーについて報告します。

1. 実験装置
実験のセットアップを図1に示します。LDはLIMOの最大出力30W、中心波長は808.7nm、スペクトル幅は2nm、水平偏光、偏光比は30:1、ファイバー結合出力、ファイバーコア径400μm、開口数です。 NA 0.22; 1:1.5の画像結合システム; Nd:YAGサイズ3 mm×3 mm×7 mm、ドーピング濃度0.7%、左808nm高透過性、1064 nm高反射​​膜、右端めっき1064nm銅箔ヒートシンクにインジウム箔で包まれた反射防止コーティング、NEOS製の音と光のQスイッチ、超音波周波数40MHz、シャットダウン電力10W; M 1は赤外線出力ミラー、左側は1064nm部分透過フィルム(透過型)率T = 30%)、右端に1064 nmの反射防止コーティングが施されています。



一般的に使用される1064 nmダブリングクリスタルは、KTP、LBO、BBOなどです。 KTP結晶は優れた性能、高効率、小さな偏差を持っているため、1064 nmの2次高調波生成実験で広く使用されており、優れた実験室指標を達成しています。しかし、K TPは、特にレーザーの出力が比較的高い場合に、高出力でいわゆる「グレートレース」現象を引き起こします。結晶が形成されると、レーザーの安定性と効率に深刻な影響が及びます。 KTPは、高出力レーザーの非線形結晶としてほとんど使用されません。 BBO結晶は高い有効非線形係数を持ちますが、オフ角が大きく、ビーム品質に重大な影響を与え、BBO潮解性は深刻であり、実際にはほとんど使用されません。要約すると、LBOクリスタルを2倍周波数クリスタルとして使用します。 LBO結晶の実効非線形係数は小さいですが、LBOは分離角が小さく許容角が大きいため、長い結晶を使用して効率を向上させることができます。 LBO両面1064 nmおよび532 nmの2色ARコーティング、切断角度θ= 90°、銅製ヒートシンクに配置、TEC(熱電冷却器)により正確に温度制御。

現在、4倍周波数水晶は、BBOやCLBOを含む少数のアプリケーションで利用できます。 CLBOは優れた性能を発揮しますが、潮解性は深刻であり、現在中国で製品を提供することはできません。BBO水晶は優れた4倍周波数水晶であり、その有効な非線形係数は大きく、市場は非常に成熟した製品を購入できます。実験では、4倍周波数水晶としてBBO水晶を使用し、BBO水晶の両側に1064、532、および266 nmの反射防止コーティングを施し、切断角度はθ= 44.7°でした。

Nd:YAGはQスイッチング後に非常に高いピーク電力を達成できるため、追加のフォーカスシステムは使用されず、システム全体が非常にコンパクトになり、フォーカスの分散効果がなくなります。実験により、フォーカスシステムがなくても非常に高いことが示されています。光から光への変換率。キャビティ長を70 mmにすると、図2に示すように、Nd:YAG結晶上のレーザースポットと熱レンズの焦点距離の関係が計算されます。安定キャビティ法を使用すると、Nd:YAGの熱レンズ焦点距離は、25 Wのポンプ出力で150 mmです。図2から、キャビティは安定した範囲にあり、結晶上のレーザースポット半径は約230μmであり、ポンプスポット半径の比率は0.77であり、これは高出力ポンピングでのモードマッチング要件を満たしていることがわかります。


2. 実験結果と分析
実験結果は、1 064 nmの出力パワーと注入パワーの関係が図3に示されていることを示しています。ポンプ出力が25 Wの場合、連続出力の最大出力は8.1 W、変調周波数が10 kHzでブリュースタープレート(BP)がキャビティに挿入されていない場合、最大出力は6.2 Wです。 BP後の出力電力は5.2 Wです。 1 064 nm赤外レーザーの偏光比を調べます:ポンプ光源が40:1 LDの場合、1 064 nmレーザーの出力偏光比は38:1です;ポンプ光源が5:1 LDの場合、出力は1 064です。 nmレーザー偏光比は5:1です。出力レーザーの偏光比は、ポンプ光源の偏光比とほぼ同じであり、偏光方向は同じであることがわかります。これは、非線形周波数変換プロセスにとって非常に重要です。偏光比が5:1のLDをポンプソースとして使用する場合、キャビティにBPを追加した後の出力レーザーの偏光比は約100:1です。

高偏光比LDポンピング、低偏光比LDポンピング、低偏光比LDポンピングチャンバー+キャビティ外周波数2倍化実験用のBPチップ、変調周波数10 kHzで得られる緑色光出力ポンプ出力の関係を図4に示します。同じポンプパワーで、高偏光比のLDは低偏光比のLD出力のグリーンパワーよりもほぼ25%高くなります。低偏光比のLDポンプの場合、挿入されたBPチップの倍増効率も大きくなります。改善:25 Wの高偏光比LDポンプパワーと10 kHzの変調周波数を使用した場合、最高の緑色光出力パワーは2.2 W、パルス幅は7 ns、ピークパワーは31.4 kWです。さらに4つの周波数の実験で、3つの構造の出力とポンプ出力の関係を図5に示します。変調周波数が10 kHzの場合、偏光比40:1のLDアレイがポンプソースとして使用され、最高出力の266 nmのレーザー出力は0.25 Wです。低偏光比LDアレイは、BPシートとBPピースを追加しない場合のUV出力は、それぞれ0.71 Wと0.62 Wです。




図6は、UVレーザー出力が0.85 Wの場合のスポット写真とパルス波形を示しています。266nmのスポットは楕円形であり、BBOの分離効果が原因であることがわかります。レーザーのパルス幅は5 ns、ピーク出力は最大17 kWです。図7は、25 Wのポンプ電力で3つの異なる構成で得られた出力電力と繰り返し周波数の関係を示しています。高偏光LDおよび変調周波数8 kHzで励起した場合、出力UV電力は0.7 Wで、ピークは17.5 kWです。


6-7

3. 結論
コンパクトなフラットキャビティ構造を使用して、高偏光比LDアレイ(40:1)、低偏光比LDアレイ(5:1)、および低偏光LDアレイキャビティを使用して実験を行い、266 nmの出力を得ました。電力は0.85、0.61、0.72 Wです。中でも、高偏光比のLDアレイは、最高出力、単一パルスエネルギー85μJ、パルス幅5 ns、最大出力17.5 kW、ポンプ光から紫外線への光から光への変換率3.4%です。実験では、LDの偏光が基本波の偏光比に大きな影響を与えることが示されています。たとえば、高い偏光比のLDアレイがポンプ光源として使用され、偏光素子がキャビティに追加されていない場合、基本波の偏光は非常に高くなります。レーザーの偏光方向はLDの偏光方向と同じであり、文献でも同様の結果が得られています。この等方性N d:YAGが偏光の励起下で偏光する現象はよく説明されておらず、これはNd:YAGの熱誘起複屈折効果と音響光学Qスイッチの回折に関係していると考えられます。役割に関連して、この現象はさらに議論する必要があります。

2019年11月11日月曜日

さまざまな分野でのレーザー技術の応用

増え続ける国家経済レベルの下で、情報の近代化とレーザー技術もさらに開発されました。 レーザー技術は、その多くの利点により、軍事、医療、その他の関連分野で広く認識されています。 レーザー技術は、さまざまな業界で最高の技術であり、さまざまな分野でレーザーを応用して生み出された一連の技術であり、各国の関係者の注目を集めていると言えます。 この観点から、このペーパーでは、軍事、医療、金属材料の加工におけるレーザー技術の応用について簡単に紹介します。

1レーザー技術の仕組み
レーザーには、単色波長の平行ビームの性能特性があります。科学実験では、電気管は光または電流のエネルギーに依存して、容易に励起される物質または結晶を含む個々の原子に衝突します。原子によって運ばれる電子は、衝撃を受けた後、高エネルギー状態にあります。完了後、原子はより多くのエネルギーを生成し、光子が発生します。この場合、放出された光子は原子に衝突し続け、原子は衝撃下で光子を生成し続け、衝撃とサイクルの解放を繰り返します同じ操作方向で、この方向に非常に強いエネルギーを持つ光線が集中します。これがレーザーの原理です。蓄積後に形成されるレーザーは強力なエネルギーを持ち、さまざまな材料が透過できます。たとえば、ルビーレーザーの出力パルスは5mmの鋼板を貫通できますが、冷水を沸騰させるエネルギーはありません。レーザーは一般的な光エネルギーを持っていますが、一般的なビームでは達成できない非常に高い出力密度と強力な貫通力を持っていますが、これはまさにこのレーザーの利点がさまざまな産業で得られているためです。広く適用されます。

2レーザー技術の応用
2.1軍事分野でのレーザー技術の応用
軍事分野でのレーザー技術の応用は、基本的には、良好なレーザー単色性、強い指向性、高輝度を備えた時空乾燥の特性を適用して、偵察および反偵察、従来の攻撃、正確なガイダンス、姿勢分析、および機密通信を実行することです。などなど。攻撃と防衛の観点から、イニシアチブをとることの攻撃的優位性はより重要であるため、軍事分野でのレーザー技術の最も魅力的な応用はレーザー兵器です。

レーザー兵器は、レーザービームを使用するとターゲットを直接破壊したり、その有用性を失ったりする可能性のある指向性の武器です。そのコンポーネントには、基本的にレーザー、発射システム、精密照準、ビームステアリング、追跡システムなどのコンポーネントが含まれます。レーザー兵器は、柔軟なステアリング、速い攻撃速度、電磁干渉を持たず、正確な攻撃を達成できるため、多くの注目を集めています。特定の運用上の使用と組み合わせて、主に戦略的なレーザー兵器と戦術的なレーザー兵器で構成されています。戦略的レーザー兵器は、数千キロメートルの攻撃に到達する可能性のある宇宙のミサイル、通信、偵察衛星などの高エネルギーレーザー兵器です。たとえば、イギリスのアマ島戦争では、イギリスはアルゼンチンの航空機に対してレーザー兵器を使用し、航空機を破壊しました。戦術レーザー兵器は、レーザーのエネルギーに依存して、敵を攻撃できる強力なレーザーを放出します。このような武器は、通常の武器では一般的に現地の人員に直接的なダメージを与える可能性があり、個々の光電計測器の損傷や故障を引き起こしたり、戦車や航空機に強いダメージを与えたりします。これらの武器は、最大20kmの攻撃距離を達成できます。最も顕著なのは、レーザー砲とレーザー銃です。レーザー技術の継続的な開発により、将来のハイテク戦争における高エネルギーレーザー兵器は、必然的に宇宙競争の主要な武器になるでしょう。

2.2医療分野でのレーザー技術の応用

レーザーはまだ医療分野のハイエンド技術です。臨床診療におけるレーザー技術の応用は3つの部分から成り、そのうちの1つは基礎医学研究におけるレーザーの応用です。レーザーの生物学的効果は、レーザーと人間の臓器組織、生体分子、細胞との相互作用を通じて研究されます; 2番目はレーザー診断です。レーザーは情報担体として使用され、良好なレーザー単色性の利点の下で、組織病理学的および病理学的状態の機能のスペクトル分析が実行され、個々の病原因子が特定されます。レーザーは、組織の生物学的効果の適用下でレーザーを治療するためのエネルギーキャリアとして使用されます。レーザー技術の継続的な開発により、それは次第に顕著な効果を伴う臨床治療になり、医療診断の開発を促進するための重要な技術です。レーザー手術は、医療分野でのレーザー技術の主な用途であり、レーザーエネルギーを使用して高エネルギーを生成し、正確な単色光に焦点を当てると、ヒト組織で局所的に高熱が発生します。治療は、標的組織を除去または破壊することで達成できます。ただし、がん細胞の偽陰性を除外することは依然として不可能であり、依然として高い割合が存在するため、腫瘍診断基準でのレーザー蛍光分光法の科学的判断にとって重要です。


2.3金属材料加工におけるレーザー技術の応用
一方では、レーザー溶接技術。レーザー溶接には、主に次の機能が含まれます。
(1)高速。
(2)小さな変形。
(3)非接触。
連続金属材料のインライン処理に非常に適しています。金属材料加工プロセスでは、レーザー溶接技術の適用により、汚染なしに溶接効率を改善できます。成長する加工技術に関連して、レーザー溶接技術のレベルも大幅に最適化されています。レーザー溶接技術の使用は、体の柔軟性の向上に寄与する曲線溶接をサポートでき、溶接材料の特別な要件に基づいて溶接することもできます。レーザー溶接技術には、主にプラズマアーク溶接技術、レーザーおよびアーク溶接技術、ダブルレーザービーム溶接技術、高周波誘導熱源複合溶接技術が含まれます。各タイプのレーザー溶接技術には異なる特性があり、技術者は実際の状況と密接に組み合わせる必要があります。特定の技術を科学的に選択して、レーザー溶接技術を適切に適用します。

一方、レーザーはパンチされます。レーザー穴あけは、他の穿孔技術よりも高い精度を備えた比較的伝統的な金属材料加工技術であると考えられています。この技術には長い開発の歴史があり、最も初期のアプリケーションは時計業界にあります。欧米諸国はレーザー掘削技術の適用に比較的豊富な経験を有しており、適用時期は中国よりもはるかに早いです。レーザー掘削技術を完成および調整する必要のある領域がまだあります。レーザー掘削技術をさらに開発する必要があります。中国と西側諸国のレーザー掘削技術のギャップは短縮されています。同時に、特定の研究期間中の実際の状況と組み合わせ、レーザー掘削技術のレベルの向上を促進するための参考として、欧米諸国の高度な経験を取り入れる必要があります。

3結論
要約すると、レーザー技術の独自性と優位性をさらに発展させるためには、レーザー技術のさまざまな分野への応用に関する詳細な研究を行う必要があります。 レーザー技術の開発の見通しは非常に広く、軍事、産業、医療、電子、化学産業で広く使用されています。空間と時間で大きな制御優位性を持ち、さまざまな分野での作業の効率的な開発のための強固な基盤を築きました。 財団は、社会的生産活動の発展に信頼できる技術的支援を提供しながら、社会的および経済的発展をさらに促進することができます。

2019年11月8日金曜日

非線形偏光回転モードロックラマンファイバーレーザー

非線形偏光回転は、ファイバーレーザーで最も一般的な同等の可飽和吸収体です。この技術は、パルスの異なる部分が、レーザキャビティに異なる蓄積することができるように、ファイバ内の非線形屈折率および複屈折効果を利用します。位相シフト、したがって異なる偏光状態に進化し、次にアナライザによる偏光選択、周期的変調の導入、および可飽和吸収体の作用に相当する時間領域でのパルスの狭まり効果に対応します。
現在、非線形偏光回転に基づいたモード同期ラマンファイバーレーザーに関する多くの報告があります。 2015年、Kuang et al。非線形偏光回転モード同期に基づく超高速ラマンファイバーレーザーの取得に成功しました。レーザーはマルチモード連続レーザーでした。ポンピングソースは、図2(a)に示すようなデバイス構造を持ち、WDMは波長分割マルチプレクサー、EDFはエルビウム添加ファイバー、EDFAはエルビウム添加ファイバー増幅器、CWは連続波、HNLFは高度に非線形なファイバー。 PCは偏光コントローラーであり、PDIは偏光依存アイソレーターです。 2つの偏光コントローラーと偏光ストッパー偏光維持アイソレーターは、非線形偏光回転モード同期の典型的な構造です。ゲインファイバは長さ500 mの高直線性ファイバであり、超高速ラマンレーザーの中心波長は1651.3 nmです。パルス幅は890 psで、パルス繰り返し周波数は378.35 kHzです。出力パルスの時間領域エンベロープとパルスシーケンスを、それぞれ図2(b)と2(c)に示します。

同じ年に、Liu等。ピコ秒の超短パルスとナノ秒の短パルス出力を実現できるモードロックラマンファイバーレーザーを報告しました。同じ非線形偏光回転メカニズムが使用されます。デバイス構造は、図3に示されている()、OCは、出力カプラとPD-ISOであるRFLラマンファイバレーザ、偏光依存アイソレータです。使用されるゲインファイバは、長さ710 mの高線形光ファイバです。偏光コントローラのさまざまな状態を調整することにより、レーザーはそれぞれピコ秒超短パルスおよびナノ秒短パルス出力の状態で動作でき、パルス幅はそれぞれ180psおよび500nsです。 2つの状態のパルスシーケンスと時間領域エンベロープを図に示します。 3(b)および3(c)。図3(d)と3(e)は、スペクトルと2つの状態のスペクトルを示しています。出力パルスの繰り返し周波数は275kHzで、スペクトルの信号対雑音比は65dBです。

検出、診断、分析、研究の分野における過渡レーザーホログラフィ干渉法の応用と開発動向

2.1近年開発された過渡レーザーホログラフィ干渉計測技術と関連機器の応用分野
過渡レーザーホログラフィー干渉法は、超短パルスレーザー、ホログラフィー、光電イメージセンサー、感光材料、コンピューター画像処理などの新しい分野をカバーし、変位や回転などの過渡プロセスの記録、再現、解釈を可能にします。ひずみ、曲げモーメント、振幅、温度、圧力、質量密度、電子密度または応力などの物理量の正確な測定、および関係曲線の描写と画像の撮影により、応力場、流れ場、燃焼場を実現、衝撃波、生物学的プロセス非破壊検査などの超高速物理現象の可視診断。

近年新しく開発および開発された典型的な過渡レーザーホログラフィ干渉測定試験装置:(1)ロケットエンジンノズルの噴霧特性をテストするためのYSC1型移動粒子過渡レーザーホログラフィテスター。 (2)レーザー熱核融合高密度プラズマ電子密度測定用のSPQ_1タイプ象限ピコ秒紫外線レーザーホログラフィック検出器。 (3)記録、再生、画像処理を含む過渡レーザーホログラフィ干渉測定システム。 (4)航空、航空宇宙、石油化学、その他の分野で一般的に使用されるダイアフラムの変位検出用のレーザーホログラフィックグレーチング精度テストシステム。



2 .2レーザーホログラフィック干渉法の応用例
(1)自然対流発熱を伴う水平偏心楕円管のレーザー干渉法レーザーリアルタイムホログラフィー干渉法は、妨害のない使いやすい新しい非接触フルフィールド測定技術です。実験条件を変更する場合、流体のリアルタイムの変化を継続的に観察および記録するのが便利であり、水平対流楕円管のレーザー干渉法などの熱伝達および物質移動の分野で広く使用および研究されています対流発熱。
(2)分離器の入口部での粒子間相互作用のレーザーホログラフィック診断
パルスレーザーホログラフィシステムは、動的粒子場を診断する優れた能力を備えています。それは気固二相流の研究に使用でき、流れ場における粒子の三次元高速過渡挙動を得ることができ、それは高い時間を持っている。そして空間分解能、気固二相流を集中的に研究することが可能です。 1998年、清華大学のShen MingzhongとLi Xiangyangは、分離器の入口セクション間の気固2相流相互作用のレーザーホログラフィック診断を実施しました。

2 .3レーザーホログラフィック干渉法の継続的な改善
(1)2002年以来、南京航空宇宙大学のCai Yunliang教授に代表される研究者は、3D変位測定の測定結果に影響するさまざまな要因を体系的に研究し、一連の分析と解決策を提案し、適用を開始しています関連分野。また、変位、変形および応力解析、および振動解析の測定に関する多数の研究を実施しました。変位または変形の大きさを測定し、現在適用間近の段階にある変位ベクトルの方向を測定します。 (2)レーザーホログラフィック干渉法干渉縞の画像を測定する場合、不均一な背景ノイズが頻繁に発生し、画像がぼやけることがあります。過去2年間、レーザーホログラフィック干渉縞のコンピューターデジタル画像処理技術の開発により、不均一なバックグラウンドノイズを大幅に除去し、画像のコントラストを高め、ホログラフィック干渉縞を改良して明確な干渉縞パターンを取得することができました。正確な定量的測定の目的。過渡レーザーホログラフィ干渉技術は、ns、ps、およびfsの時間分解能を持ち、近赤外から紫外までのスペクトル範囲を持ちます。光電イメージセンサーの空間分解能が向上するにつれて、ホログラフィックドライプレートを大口径アレイCCDターゲットに置き換えることが間もなく現実になります。現在、米国とドイツは、細菌記録媒体からレーザーホログラフィック干渉測定装置を開発しています。半導体レーザー技術の進歩により、パルス固体レーザーの小型化が可能になりました。小型で携帯可能な過渡レーザーホログラフィック計測テスト装置は、研究、防衛、および国民経済において大きな役割を果たすでしょう。

2019年11月4日月曜日

520nm 緑色 高出力レーザーダイオードモジュール

これは、520nmのドットレーザモジュールです。 1200mwのレーザー、電圧調整可能な電源、モジュールホルダーが含まれています。 緑のドットサイズは調整可能です。 520nmレーザーは純粋な緑色です。 光は透明で明るく柔らかく、まぶしさはありません。 今すぐ確認しましょう。